웨이퍼 처리 솔루션 전문 기업인 ACM리서치(ACM Research, Inc., NASDAQ: ACMR)는 Ultra PmaxTM PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 장비를 새롭게 출시하고, 자사의 주요 제품군을 확대한다고 27일 밝혔다. ACM은 수주 내에 중국의 IC 제조사 고객에게 첫 번째 PECVD 장비를 납품할 예정이다.

ULTRA PmaxTM PECVD 장비는 더 나은 필름 균일성, 감소된 필름 응력, 개선된 입자 성능을 제공하기 위해 ACM 고유 설계의 챔버, 가스 분배 장치 및 척(chuck)을 장착하고 있다.

단일 챔버 모듈식 설계를 채택하고 있는 이 장비는 두 가지 구성으로 제공된다. 하나는 매우 얇은 층 또는 빠른 프로세스 단계에 이상적인 1 ~ 3개의 챔버 구성이고, 다른 하나는 처리량을 최적화하면서 후막 증착 및 더 긴 프로세스 시간을 지원하는 4 ~ 5개의 챔버 구성이다. 두 가지 모두 챔버당 여러 개의 히터가 있어 더 나은 공정 제어와 생산성을 제공할 수 있다.