중국 재료 기업과 독일 재료 기업이 반도체용 포토레지스트 개발을 위해 3년 간 머리를 맞댄다. 

19일 중국 언론 정췐스바오에 따르면 중국 재료 기업 상하이 신양(SHANGHAI SINYANG)이 헤레우스(Heraeus)와 '협력 MOU'를 체결하고 공동으로 반도체 산업용 포토레지스트와 관련 재료를 개발한다고 밝혔다. 

양사가 협의한 협력 기간은 3년이다. 

헤레우스는  글로벌 전자 부품 및 재료 기업으로 친환경, 전자, 헬스케어 및 산업에 응용되는 제품을 만들고 있다. 지난해 판매액이 315억 유로(약 42조 1060억 원)에 달한다. 

상하이신양은 중국 반도체 공정 재료 기업으로, 포토레지스트 개발을 추진하면서 외산 포토레지스트 기술 돌파구를 마련해 국산화를 하겠단 목표를 갖고 있다. 이미 ArF 건식, KrF 후막 및 i-라인 포토레지스트 일부 제품의 주문을 받았다. 
  
상하이신양은 이번 협력의 목표가 포토레지스트 공급망 보완이며, 재료와 기술을 공급할 것이라고 전했다. 반도체 제조용 포토레지스트 상품 연구개발에 긍정적 영향을 줄 것으로 기대했다. 

상하이신양의 반도체 제조용 포토레지스트 중 KrF 포토레지스트는 이미 고객의 인증을 통과해 주문을 받았다는 점에서 기술 진척을 이뤄나가고 있다는 평가다. 

 i라인 포토레지스트 연구개발을 위한 니콘 i14 리소그래피 장비와 KrF 포토레지스트 연구개발을 위한 니콘 205C 리소그래피 장비, 그리고 ArF 건식 포토레지스트 연구개발을 위한 ASML-1400형 리소그래피 장비, 또 ArF 이머전 포토레지스트 연구개발을 위한 ASML XT-1900 Gi형 리소그래피 장비도 구매했다.